香港城市大学物理与材料科学系讲座教授朱剑豪教授 (Prof. Paul K Chu) 于10月17日来我所学术交流，并在“黄昆半导体科学技术论坛”上作第83期报告，报告题目: “Plasma-Based Technology in Microelectronics, Nanotechnology, and Biomedical Engineering”，论坛由王占国院士主持。

    朱剑豪教授主要从事等离子体物理和离子注入的基础理论及其在半导体和生物信息, 传感材料和医用材料领域的应用研究。朱教授在报告中介绍了他们研究小组将等离子体浸没处理应用于半导体技术、生物医学工程和纳米技术等方面的研究成果。在半导体技术方面，他介绍了利用氢等离子体处理和层转移技术相结合制备100和150mm规格 SOI的基片；利用等离子体浸没注入及沉积技术(plasma immersion ion implantation and deposition (PIII&D))制备类金刚石薄膜，从而获得具有更好热稳定性的SOI结构；以及使用等离子体氮化技术提高几种高k薄膜材料的结晶性及界面特性。同时他还介绍了等离子体改性技术在生物医学方面的应用，如他们发现在等离子体喷涂的纳米TiO2涂层具有生物活性，在其表面上很容易生长磷灰石(骨骼的主要成分)。此外，他们还利用等离子体处理提高心脏血管材料的血液兼容性、生物材料的抗菌性、以及将等离子体处理的形状记忆合金应用于人体脊椎骨矫正手术。报告也介绍了他们研究小组在纳米生物学的研究成果，尤其是3C-SiC纳米颗粒在生物标签方面的成果。来自中科院半导体所、理化所、物理所和北京大学等研究所和高校的部分科研人员及研究生到会听取了报告。朱教授的报告引起了参会人员的浓厚兴趣，现场讨论气氛十分热烈。另外，朱教授也表示此次来我所访问，促进学术交流只是目的之一，更重要的是想寻求一些合作。

    此次论坛报道了等离子体处理在改性半导体材料和器件方面的作用，同时报告了传统半导体材料在生物标签等方面的应用，对学科交叉有很好的展示，经过聆听这次报告，拓宽了我所研究人员的知识面，为今后相关的研究工作起到了很好的借鉴作用。