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半导体所集成中心举办新设备与新技术报告会

2012-08-16

为了更好地为所内各个课题组提供工艺技术服务,介绍集成技术中心的新设备与新工艺,加强与各个课题组的联系与交流,集成技术中心于2012年8月14日下午在所学术会议中心举办一场所内设备与技术报告交流会,报告会由集成技术中心主任杨富华研究员主持。

集成技术中心作为所级公共技术服务中心,是一个完全开放的平台,为所内外科研人员提供技术和设备咨询服务,进行单项和集成工艺技术服务。中心运行多年来,始终坚持以支撑关键技术创新与集成为宗旨,在单项工艺技术和集成技术方面均取得了突破,对国家重大科研任务的完成起到了关键技术支撑作用,为科研项目的争取提供了设备和技术基础。

王晓东研究员、韩伟华研究员、王晓峰副研究员、樊中朝副研究员、黄亚军助理研究员分别在报告会上做了“扫描电镜、聚焦离子束、椭偏仪介绍”、“电子束曝光与纳米压印技术”、“丹顿磁控溅射设备介绍”、“新增刻蚀设备介绍”、“SUSS SB6e 设备介绍”报告。参加本次报告会的老师及研究生达到70余人。



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