2011年 9月1日上午8:30在集成技术中心杨富华主任在所学术会议中心围绕原子层沉积（Atomic Layer Deposition）技术做了精彩的报告。原子层沉积技术是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基底上化学吸附并反应而形成薄膜的一种方法，可用于制备高质量介质膜与光学膜。杨富华主任针对它在沉积膜层的均匀性、保形性以及膜厚控制能力等方面优势做了近一个小时详细的讲解。随后，材料中心张峰老师介绍了他利用ALD技术制备铁电薄膜方面的应用案例。来自所内各部门50多名老师和学生听取了报告。